フォトリソグラフィー装置の市場規模、2025年に180億米ドル到達見込み

フォトリソグラフィー装置の市場規模は、2020年の116億米ドルからCAGR 9.1%で成長し、2025年には180億米ドルに達すると予測されています。市場の成長を促進する主な要因は、高度な半導体製造技術の登場と、政府の支援の増加です。市場の主要プレーヤーは、研究開発活動に注力しています。

COVID-19のフォトリソグラフィー装置市場への影響

パンデミックの影響で、在宅勤務やオンライン教育の導入が進んでいます。その結果、5G対応機器などの接続ソリューションへの需要が急増し、既存の4G・5Gネットワークインフラの拡張や新規開発への要求が高まり、データセンター施設の拡大が進んでいます。これにともない、世界的に半導体ICの需要が高まっています。米国Semiconductor Industry Association（SIA）によると、2020年6月の世界の半導体売上高は345億米ドルで、2019年6月の329億米ドルから5.1%増加しています。世界の半導体ファウンドリーは、2020年に23.8％の増収が見込まれています。

タイプ別には、EUVが最速のCAGRで成長

フォトリソグラフィー装置市場は、タイプ別にDUVとEUVに分類されています。これらの装置は、半導体デバイスの製造に使用される異なる波長を生成するために異なる光源を使用します。人工知能（AI）、モノのインターネット（IoT）、5Gなどの進歩により、EUVフォトリソグラフィーの需要が高まると予想されています。EUVフォトリソグラフィー装置の採用により、新しいプロセスごとにリエンジニアリングを行う必要性が減り、7nmプロセスと5nmプロセス、およびその後継プロセスのデザインルールの共有が可能になります。このアプローチにより、新しいジオメトリの移行期間が大幅に短縮され、市場の顧客に新たな選択肢と機会を提供できるものと期待されています。

光源別には、レーザー生成プラズマが最大規模

フォトリソグラフィー装置市場は、光源別に水銀灯、エキシマレーザー、フッ素レーザー、レーザー生成プラズマに分類されます。EUVフォトリソグラフィー装置市場の隆盛は、レーザー生成プラズマ光源の需要を牽引しています。レーザー生成プラズマは、新しく導入されたEUVフォトリソグラフィー装置に採用されています。レーザー生成プラズマは、波長が1nmまで向上しています。これらのプラズマは冷紫外線光源として機能し、10nmの帯域幅を持つ単色光を提供します。EUVフォトリソグラフィー装置に使用されているLEDは、他の光源に比べて低コスト、低消費電力、長寿命です。